中微5nm蚀刻机成了，台积电已验收，纯国产纯自主研发 

        众所周知，半导体工艺是一项集大成的高精密科技，制成越高工艺也就越高，从65nm到32nm再到如今的10nm，因为制成难度问题淘汰掉了很多半导体企业，还在为更高制成研发的半导体企业也很少。

        近日，国产中微传来喜讯，旗下5nm等离子体蚀刻机通过了台积电的验证，未来台积电生产5nm制成将会用到由中微提供的蚀刻机，该蚀刻机由国产中微完全自主研发，可喜可贺。

1、中微成立于2004年，在半导体行业小有名气

        中微在半导体行业算是小有名气了，该公司有多位留美归国博士所创立，成立于2004年11月，总投资5亿元，对于此次成功研发出5nm蚀刻机，中微半导体CEO尹志尧表示：在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻200个字已经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。

2、5nm蚀刻机成了，不代表可以量产5nm芯片

        不过需要注意的是，中微搞定了5nm蚀刻机并不代表台积电就可以直接用来生产5nm制成了，因为蚀刻机只是众多工艺中的一个环节而已，而重要的光刻机，台积电仍然需要从荷兰ASML进口。

3、国产的自主光刻机仅可生产90nm工艺

        所以说，我国半导体行业和世界大厂之间的差距还是很大的，尤其是重要的光刻机，国内做光刻机好的是上海微电子，但可惜微电子也仅能生产90nm，但令我们欣慰的是，国内有很多像中微这样的半导体企业在不断努力，差距也在不断缩小。

        对于像中微这样的企业我们应该给予鼓励和支持，完全的自主研发，不采用任何架构，希望中微再接再厉，可以在半导体行业占据一席之地。