行业小白不要慌，明白这7步轻松了解蚀刻工艺

“蚀刻”，顾名思义就用带有腐蚀性的酸在金属或其他材料表面腐蚀并刻出图案。而蚀刻作为新兴的化学切削方式，为人类现代科学技术的发展作出了突出贡献。那么蚀刻图案到底是怎么形成的呢？
蚀刻工艺流程及原理

开料→清洗板材→干膜或涂布→焗炉烘干→曝光→ 显影→蚀刻→脱膜→检测包装

      1.基板的清洗与表面处理

目的：除去蚀刻 工件表面的防锈油、润滑油、乳化液及工作人员分泌的汗渍油脂等。成份组成：氢氧化钠、碳酸钠等碱性物质及十二烷基苯磺酸钠等。清洗不完全，涂布工序中保护膜脱落，保护膜与 蚀刻 工件的接合力，使 蚀刻 过程中保护膜脱落，造成工件的损坏。
2. 涂布（涂布感光油墨）
可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，能保证涂层在蚀刻时，对蚀刻 产品需保护部位充分的保护。此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布。
3.焗炉烘干
       焗炉烘干采用全自动化产线，视金属材料的要求和厚度，烘干时间不等，目的只是防止曝光时感光油墨粘住菲林，要在暗室中进行操作。
       4 .曝光
        曝光在紫外光的照射下，光引发剂吸收光能分解成游离基，游离基再引发不聚合单体进行聚合交联反应，反应后形成不溶于稀碱溶液的体形大分子结构。曝光一般在自动面曝光机内进行。曝光成像质量除干膜光到抗蚀剂的性能外，光源的选择，曝光的时间的控制，照相底版的质量等，都是影响曝光成像质量的重要因素。
5.显影
曝光的钢片放入显影机显影，用5‰~12‰Na ₂CO₃溶液，显影温度30℃~40 ℃，显影时活性基团羧基 -COOH与Na₂CO₃反应，生成亲水性基团 -COONa ，从而把未曝光的部分溶解下来，而曝光部分的干膜不被溶解，保留在板面上使图案部分基材不被药水蚀刻。
6.蚀刻
      通常蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影，将要蚀刻的区域去除。在蚀刻时接触化学溶液，使用两个阳性图形，通过从两面的化学研磨达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。化学蚀刻是很有针对性的，专指受控腐蚀，是金属通过化学方法进行一种可以控制的加工方法。
7.脱墨（退膜）

通过较高浓度的NaOH(1-4%),将其加温到50℃左右，NaOH具有强腐蚀性，其与基材表面的感光材料发生化学反应，将基材表面的感光材料剥离。






在高端的航天航空工业中，化学蚀刻已成为制造飞机、外太空飞行器、导弹等的大型整体结构的标准加工方法；在现代电子工业中，尤其是各种集成芯片的制作上，化学蚀刻是其他加工方法所不可代替的。在普通民用领域，越来越多的电子机壳、仪表盘、铭牌等都大量采用化学蚀刻加工方法来进行制作，以提高其产品的装饰性及档次，增强其产品在市场上的竞争力。如果想了解更多蚀刻知识以及蚀刻行业信息，欢迎随时联系我们！咨询热线：